电子半导体超纯水系统

电子半导体超纯水系统设备通常有多介质过滤器,活性炭过滤器,精密过滤器等构成预处理系统,RO反渗透主机系统,离子交换混床(EDI
 电子半导体超纯水系统设备通常有多介质过滤器,活性炭过滤器,精密过滤器等构成预处理系统,RO反渗透主机系统,离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主要设备系统。
当今,半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需要大量的纯水、超纯水清洗成品、半成品。集成电路的集成度越高,线宽越窄,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级,分别为18.2MΩ·cm、15MΩ·cm、10MΩ·cm、2MΩ·cm、0.5MΩ·cm,以区分不同水质。其中,对于超纯水要求最关键的指标:电导率(电阻率),总硅,PH值,颗粒度等。因此,线路板、电路板使用纯水、超纯水因为本身工艺流程的不同对超纯水制造的工艺也不同,所以,杭州欧泉科技有公公司会根据客户的要求,设计适合客户用水的设备方案。
电子半导体超纯水系统设备通常有多介质过滤器,活性炭过滤器,精密过滤器等构成预处理系统,RO反渗透主机系统,离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主要设备系统。水箱设有液位控制系统、水泵设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用模块化组合PLC,及通信远程输送至中控室上位机,实现现场就地和集中控制两种操作方式,同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法,使该设备与其他同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。
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